고려대학교와 카이스트 협력 그래핀 전사방법

요약

구리기판에 CVD로 합성된 그래핀 상부에 

전사할 기판을 고전압, 고온, 고압 으로 전사하는것임

전사된 그래핀은 고온 다습 환경에서도 잘 분리되지않음

반데르 발스 힘이 작용.


의의

기존 전사방법은 3단계이상으로 시간과 비용이 많이 소요됨

새로운 전사방법은 이물질없는 순수한 그래핀을 1단계로 쉽게 전사가능

이물질이 품질이 좋음


삼성 성균관대방법과의 차이점

고려대

구리 기판을 사용한 CVD로 만든 그래핀 전사

성균관대 

Si 웨이퍼를 Ge(110)코팅또는 Ge 기판기판위에 그래핀 형성 (수소층으로 분리 용의)




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